2025年度経済産業省情報産業課2021年度開始 〜 2030年度
先端半導体の国内生産拠点の確保
- 予算確定額
- —
- 要求額
- —
- 前年度執行額
- 4713.9億円
- 前年度執行率
- 100%
予算額の推移
4 年度分※ 同じ事業系列(lineage)として記録されている年度のみを並べています。 事業の統合・分割があった場合は連続しません。
主要な支出先
最大1者のみ国立研究開発法人新エネルギー・産業技術総合開発機構
- 支出額
- 4713.9億円
- 法人番号
- 2020005008480
※ 上流が公開しているのは支出額が最大の1者のみです。 事業の全支出先の内訳ではありません。
事業概要
5G促進法に基づいて認定を受けた先端半導体の生産施設整備及び生産に関する計画について、国立研究開発法人新エネルギー・産業技術総合開発機構に設置する基金から、認定を受けた事業者が計画の実施に必要な資金を最大1/2補助する。 ※5G促進法:特定高度情報通信技術活用システムの開発供給及び導入の促進に関する法律 【EBPMアクションプラン関連事業】:半導体関連の国内投資促進
目的
半導体は、デジタル化の進展により、自動車や医療機器等の様々な分野での活用が拡大する一方、グローバルなサプライチェーンが影響を受けるリスクが高まっている。あらゆる産業に影響を与え、デジタル社会において不可欠な先端半導体の安定供給を確保することが、産業基盤の強靱化や戦略的自律性・不可欠性の向上の観点で、最重要課題。本事業では、先端半導体の国内生産拠点整備への支援を行うことで、事業者による生産施設整備への投資判断を後押しする。 【EBPMアクションプランの政策目標】○半導体関連の国内投資促進:我が国産業の発展と社会のデジタル化による高度化に必要不可欠なAI・半導体分野の産業競争力を強化させるとともに、安定的な生産能力を確保することで、経済安全保障を確保するとともにエネルギー効率化に繋げること。
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